潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)(ti)工藝(yi)對溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以(yi)(yi)后還(huan)要列(lie)舉，但作(zuo)(zuo)(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)原則看(kan)，由(you)于加(jia)工精(jing)(jing)度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)精(jing)(jing)細，所以(yi)(yi)對溫(wen)度(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。例(li)如在(zai)大規模集(ji)成(cheng)電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝(pu)光(guang)工藝(yi)中，作(zuo)(zuo)(zuo)為掩膜板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)差(cha)要求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫(wen)度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨脹(zhang)(zhang)，所以(yi)(yi)必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)時(shi)要求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)值一般較低，因為人出汗以(yi)(yi)后，對產(chan)品(pin)將(jiang)有(you)污染，特(te)別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體(ti)(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題(ti)更多。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻水管(guan)壁(bi)上(shang)會結露，如果發生(sheng)在(zai)精(jing)(jing)密(mi)裝置或電路中，就會引(yin)起各(ge)種事故(gu)。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)(yi)生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)將(jiang)通過(guo)空(kong)氣中的(de)(de)(de)(de)水分(fen)子把硅(gui)片(pian)表(biao)(biao)面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化(hua)學吸附在(zai)表(biao)(biao)面難以(yi)(yi)清除。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)低于30%時(shi)，又由(you)于靜電力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)(zuo)用(yong)使粒子也容易(yi)(yi)吸附于表(biao)(biao)面，同(tong)時(shi)大量半導(dao)體(ti)(ti)器件容易(yi)(yi)發生(sheng)擊穿。對于硅(gui)片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)范(fan)圍為35—45%。