潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)求以(yi)后(hou)還要(yao)(yao)列舉，但作為(wei)總的(de)(de)原則看，由于加(jia)工(gong)精度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)波動范圍(wei)的(de)(de)要(yao)(yao)求越(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)小。例如(ru)在大(da)規模集成電路生(sheng)產的(de)(de)光刻曝光工(gong)藝(yi)中(zhong)，作為(wei)掩膜板材料的(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)熱膨(peng)脹系(xi)數的(de)(de)差要(yao)(yao)求越(yue)(yue)(yue)(yue)來(lai)(lai)越(yue)(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅片(pian)，溫度(du)(du)上升1度(du)(du)，就(jiu)(jiu)引(yin)起了0.24um線性膨(peng)脹，所以(yi)必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒溫，同(tong)時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)求濕度(du)(du)值一般較(jiao)低，因為(wei)人出汗以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產品(pin)將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)半(ban)導體車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫度(du)(du)不宜(yi)超過(guo)25度(du)(du)，濕度(du)(du)過(guo)高(gao)產生(sheng)的(de)(de)問(wen)題更多。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)超過(guo)55%時(shi)(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁(bi)上會結(jie)露(lu)，如(ru)果發生(sheng)在精密裝(zhuang)置(zhi)或電路中(zhong)，就(jiu)(jiu)會引(yin)起各種(zhong)事故(gu)。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易(yi)(yi)生(sheng)銹(xiu)。此外，濕度(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)(shi)將通過(guo)空(kong)氣中(zhong)的(de)(de)水(shui)分子(zi)把硅片(pian)表(biao)(biao)面粘著(zhu)的(de)(de)灰(hui)塵(chen)化學吸(xi)附在表(biao)(biao)面難以(yi)清除(chu)。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)高(gao),粘附的(de)(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相對(dui)(dui)濕度(du)(du)低于30%時(shi)(shi)(shi)，又(you)由于靜電力的(de)(de)作用使粒子(zi)也容易(yi)(yi)吸(xi)附于表(biao)(biao)面，同(tong)時(shi)(shi)(shi)大(da)量半(ban)導體器件容易(yi)(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于硅片(pian)生(sheng)產濕度(du)(du)范圍(wei)為(wei)35—45%。