潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)求以(yi)后(hou)還要(yao)列(lie)舉，但作為(wei)總的(de)(de)原則看(kan)，由于加(jia)工精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)精(jing)細，所以(yi)對(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)要(yao)求越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小。例(li)如在大(da)規模集(ji)成電路(lu)生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)(chan)的(de)(de)光刻曝光工藝中，作為(wei)掩膜板材料的(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差要(yao)求越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅片，溫度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了(le)0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)求濕(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為(wei)人出汗以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)(dui)產(chan)(chan)品將(jiang)有污染，特別是怕鈉的(de)(de)半(ban)導體(ti)車間，這種車間溫度(du)(du)(du)(du)不(bu)宜超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)(de)問(wen)題更多。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)(shi)(shi)，冷(leng)卻水(shui)管壁(bi)上(shang)會(hui)結露，如果發生(sheng)(sheng)(sheng)在精(jing)密裝置或(huo)電路(lu)中，就(jiu)會(hui)引起各種事故。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易(yi)生(sheng)(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)(shi)將(jiang)通過(guo)空氣中的(de)(de)水(shui)分子把(ba)硅片表(biao)面(mian)粘著的(de)(de)灰(hui)塵化學(xue)吸(xi)(xi)附(fu)在表(biao)面(mian)難以(yi)清(qing)除。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)越(yue)難去掉，但當相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)低于30%時(shi)(shi)(shi)，又(you)由于靜(jing)電力的(de)(de)作用使粒子也容易(yi)吸(xi)(xi)附(fu)于表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)(shi)大(da)量半(ban)導體(ti)器件(jian)容易(yi)發生(sheng)(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于硅片生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。