潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)以后還要(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)總的(de)(de)原則看，由(you)于(yu)加工精(jing)度(du)(du)越(yue)來(lai)(lai)(lai)越(yue)精(jing)細(xi)，所以對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)(lai)(lai)越(yue)小。例如(ru)在大(da)(da)規模集成電(dian)路生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)光刻曝光工藝中，作(zuo)為(wei)掩(yan)膜板(ban)材料的(de)(de)玻璃與硅(gui)(gui)片的(de)(de)熱(re)膨脹系數的(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)(lai)(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅(gui)(gui)片，溫(wen)度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就(jiu)引起了(le)0.24um線性膨脹，所以必須有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒(heng)溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)值一般較低，因為(wei)人(ren)出(chu)汗以后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)半(ban)導體(ti)車間，這種車間溫(wen)度(du)(du)不宜(yi)超(chao)過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過(guo)高產(chan)生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)(de)問題更多(duo)。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁上(shang)會(hui)結露，如(ru)果(guo)發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)在精(jing)密裝置或(huo)電(dian)路中，就(jiu)會(hui)引起各種事故。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)在50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)度(du)(du)太高時(shi)(shi)將通過(guo)空(kong)氣中的(de)(de)水(shui)分(fen)子把硅(gui)(gui)片表面粘著的(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在表面難以清除。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)越(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜電(dian)力的(de)(de)作(zuo)用(yong)使(shi)粒子也容易吸附(fu)于(yu)表面，同時(shi)(shi)大(da)(da)量半(ban)導體(ti)器件容易發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)硅(gui)(gui)片生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。