潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)(de)要求以(yi)后還(huan)要列舉，但作(zuo)(zuo)為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)原則(ze)看，由于加工(gong)精(jing)度(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精(jing)細(xi)，所以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要求越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。例如在(zai)(zai)大規模集(ji)成(cheng)電(dian)路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝中，作(zuo)(zuo)為(wei)(wei)掩膜板(ban)材(cai)料的(de)(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)差要求越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片，溫度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就引(yin)起(qi)了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)恒(heng)溫，同時(shi)要求濕(shi)度(du)(du)值一般較低，因為(wei)(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產(chan)品將有污染，特(te)別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)半(ban)導體車(che)間，這種(zhong)車(che)間溫度(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)問題(ti)更多(duo)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁(bi)上(shang)會結露(lu)，如果發生(sheng)在(zai)(zai)精(jing)密裝置或電(dian)路中，就會引(yin)起(qi)各(ge)種(zhong)事故。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)將通過(guo)(guo)空氣中的(de)(de)(de)水分子(zi)(zi)把硅片表面(mian)粘著的(de)(de)(de)灰塵(chen)化學吸附在(zai)(zai)表面(mian)難(nan)以(yi)清除。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)低于30%時(shi)，又由于靜電(dian)力(li)的(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)用(yong)使粒子(zi)(zi)也容易吸附于表面(mian)，同時(shi)大量(liang)半(ban)導體器件容易發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于硅片生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)范圍為(wei)(wei)35—45%。