潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工(gong)藝(yi)對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)列(lie)舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)原(yuan)則看，由于(yu)(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所(suo)以(yi)(yi)對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。例如(ru)在大(da)規模集成電路(lu)生產的(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝(yi)中，作(zuo)為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)上升(sheng)1度(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線性膨脹，所(suo)以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時要(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)值一般較(jiao)低，因為(wei)人出汗以(yi)(yi)后，對(dui)(dui)產品(pin)將有污染，特別(bie)是怕鈉的(de)(de)(de)半導(dao)(dao)體(ti)車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)不(bu)宜(yi)超過25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過高產生的(de)(de)(de)問題更(geng)多。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)超過55%時，冷卻水(shui)管壁上會結露，如(ru)果發生在精密(mi)裝置或電路(lu)中，就(jiu)會引起各種(zhong)事(shi)故(gu)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)在50%時易(yi)生銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)太高時將通(tong)過空(kong)氣中的(de)(de)(de)水(shui)分子把硅片(pian)表(biao)面(mian)(mian)粘(zhan)著的(de)(de)(de)灰塵(chen)化學吸附在表(biao)面(mian)(mian)難(nan)以(yi)(yi)清除(chu)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高,粘(zhan)附的(de)(de)(de)越(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時，又由于(yu)(yu)靜電力的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒(li)子也容易(yi)吸附于(yu)(yu)表(biao)面(mian)(mian)，同時大(da)量(liang)半導(dao)(dao)體(ti)器(qi)件容易(yi)發生擊穿(chuan)。對(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)生產濕(shi)度(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。