潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求以(yi)(yi)后還(huan)要列舉，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加(jia)工精(jing)(jing)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)精(jing)(jing)細(xi)，所(suo)以(yi)(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)波(bo)動范圍的(de)(de)(de)(de)要求越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)小。例如在(zai)(zai)大(da)規模集(ji)成電(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工藝(yi)中，作為掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)與硅(gui)片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)差要求越(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性(xing)膨脹，所(suo)以(yi)(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒(heng)溫(wen)，同(tong)時要求濕(shi)度(du)(du)(du)值(zhi)一(yi)般較低，因(yin)為人(ren)出汗(han)以(yi)(yi)后，對產(chan)品將有污染(ran)，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導體車間，這種車間溫(wen)度(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過高產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)超(chao)過55%時，冷卻(que)水(shui)管壁上會結(jie)露，如果發(fa)生(sheng)在(zai)(zai)精(jing)(jing)密裝置或(huo)電(dian)路(lu)中，就會引(yin)起各種事故。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)太高時將通過空氣(qi)中的(de)(de)(de)(de)水(shui)分子把硅(gui)片(pian)表面粘著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸附在(zai)(zai)表面難以(yi)(yi)清除。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)難去掉(diao)，但(dan)當相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時，又由于(yu)(yu)靜電(dian)力的(de)(de)(de)(de)作用(yong)使(shi)粒(li)子也(ye)容易吸附于(yu)(yu)表面，同(tong)時大(da)量半(ban)導體器件容易發(fa)生(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅(gui)片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)范圍為35—45%。