潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝(yi)對(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)以后還(huan)要(yao)列舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)原則看，由于加工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所(suo)以對(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。例如在(zai)(zai)大規模集(ji)成電(dian)(dian)路生(sheng)產(chan)的(de)(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工(gong)藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板材料的(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)熱膨脹系數(shu)的(de)(de)差(cha)要(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅片(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，就引起(qi)了(le)0.24um線性膨脹，所(suo)以必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫，同(tong)時(shi)(shi)要(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)值一(yi)般較低，因為(wei)人(ren)出汗以后，對(dui)產(chan)品將有污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)半(ban)導體車(che)間(jian)，這(zhe)種(zhong)車(che)間(jian)溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)問題更多。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁上(shang)會結露(lu)，如果發生(sheng)在(zai)(zai)精密裝(zhuang)置或(huo)電(dian)(dian)路中(zhong)，就會引起(qi)各種(zhong)事故。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)將通過(guo)空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)水(shui)分子把硅片(pian)表面(mian)粘著的(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)(zai)表面(mian)難以清除。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附的(de)(de)越(yue)難去掉(diao)，但當相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)低于30%時(shi)(shi)，又(you)由于靜電(dian)(dian)力(li)的(de)(de)作(zuo)用(yong)使粒子也容易吸附于表面(mian)，同(tong)時(shi)(shi)大量半(ban)導體器件容易發生(sheng)擊穿。對(dui)于硅片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。