潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)的(de)要(yao)求以(yi)后還要(yao)列舉(ju)，但(dan)作(zuo)為總的(de)原則看(kan)，由于加工精(jing)度(du)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)精(jing)細，所(suo)以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)波(bo)動范(fan)圍的(de)要(yao)求越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。例如在大規模集成電(dian)路生產的(de)光刻曝光工藝中，作(zuo)為掩膜板材料的(de)玻璃與硅片(pian)(pian)(pian)的(de)熱膨脹系數的(de)差要(yao)求越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)硅片(pian)(pian)(pian)，溫(wen)度(du)上升(sheng)1度(du)，就引起(qi)了0.24um線(xian)性膨脹，所(suo)以(yi)必須有±0.1度(du)的(de)恒溫(wen)，同時要(yao)求濕(shi)(shi)度(du)值一般較低(di)，因為人(ren)出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產品(pin)將有污染，特別(bie)是怕鈉的(de)半導體車間(jian)，這種車間(jian)溫(wen)度(du)不宜超(chao)過(guo)25度(du)，濕(shi)(shi)度(du)過(guo)高(gao)產生的(de)問題(ti)更多。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)超(chao)過(guo)55%時，冷卻(que)水管(guan)壁(bi)上會結露，如果發(fa)生在精(jing)密裝(zhuang)置或電(dian)路中，就會引起(qi)各種事故。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)在50%時易生銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)太高(gao)時將通過(guo)空氣中的(de)水分子(zi)把硅片(pian)(pian)(pian)表面粘(zhan)著的(de)灰塵化學(xue)吸附在表面難以(yi)清除。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)越(yue)(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附的(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉，但(dan)當相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)低(di)于30%時，又由于靜電(dian)力的(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fa)生擊穿(chuan)。對(dui)(dui)于硅片(pian)(pian)(pian)生產濕(shi)(shi)度(du)范(fan)圍為35—45%。