潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以(yi)(yi)后還(huan)要列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)總(zong)的(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由于加工(gong)精度(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所(suo)以(yi)(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。例如在(zai)大規(gui)模集成電路(lu)生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝(pu)光(guang)工(gong)藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板(ban)材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與(yu)硅片的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就引起了(le)0.24um線性(xing)膨(peng)脹(zhang)，所(suo)以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)時要求(qiu)濕(shi)度(du)(du)值(zhi)一般較低，因為(wei)人(ren)出汗以(yi)(yi)后，對(dui)產(chan)品將(jiang)有污染，特(te)別(bie)是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導(dao)體車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫(wen)度(du)(du)不(bu)宜(yi)超過25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過高(gao)產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更(geng)多。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)超過55%時，冷卻水管壁上(shang)會(hui)結露，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)精密裝置或電路(lu)中(zhong)，就會(hui)引起各(ge)種(zhong)事故(gu)。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)在(zai)50%時易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)太高(gao)時將(jiang)通(tong)過空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水分(fen)子把硅片表面粘著的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表面難以(yi)(yi)清除。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)越(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)低于30%時，又由于靜電力的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易吸附(fu)于表面，同(tong)時大量半(ban)導(dao)體器件容易發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于硅片生(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)范圍為(wei)35—45%。