潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)藝對(dui)溫度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)后還(huan)要(yao)列舉，但作為(wei)總的(de)(de)原(yuan)則看(kan)，由(you)于加工(gong)(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)細(xi)，所(suo)以(yi)對(dui)溫度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)大(da)規模集成(cheng)電(dian)路生(sheng)產(chan)的(de)(de)光刻曝(pu)光工(gong)(gong)藝中，作為(wei)掩膜板材料(liao)的(de)(de)玻璃與(yu)硅片(pian)(pian)的(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑(jing)100 um的(de)(de)硅片(pian)(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性(xing)膨(peng)脹，所(suo)以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫，同時要(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般較(jiao)低，因為(wei)人出汗(han)以(yi)后，對(dui)產(chan)品(pin)將有污染(ran)，特別(bie)是怕鈉的(de)(de)半(ban)導體車(che)間，這種車(che)間溫度(du)(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)問題更多。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超過55%時，冷卻(que)水(shui)管(guan)壁(bi)上會結露，如果發生(sheng)在(zai)精(jing)密(mi)裝置或電(dian)路中，就會引(yin)起各種事故。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時易(yi)(yi)生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太高(gao)時將通過空氣(qi)中的(de)(de)水(shui)分子把硅片(pian)(pian)表面(mian)(mian)粘著(zhu)的(de)(de)灰塵(chen)化(hua)學吸附在(zai)表面(mian)(mian)難以(yi)清除。相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附的(de)(de)越(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相對(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于30%時，又(you)由(you)于靜電(dian)力的(de)(de)作用使粒(li)子也容(rong)易(yi)(yi)吸附于表面(mian)(mian)，同時大(da)量半(ban)導體器件(jian)容(rong)易(yi)(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)于硅片(pian)(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為(wei)35—45%。