潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)(ti)工藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)后(hou)還要(yao)(yao)列舉，但作為(wei)總的(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)(yu)(yu)加工精度(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所(suo)以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)大規模集(ji)成電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)光刻曝(pu)光工藝中(zhong)，作為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引起了0.24um線性(xing)膨脹(zhang)，所(suo)以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)值一般較(jiao)低(di)，因為(wei)人出(chu)汗以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產(chan)品將(jiang)有(you)污染，特(te)別(bie)是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)(ti)車間，這種車間溫(wen)度(du)(du)不(bu)宜超過25度(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)過高產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)超過55%時(shi)，冷卻水(shui)管壁上會結露，如果(guo)發生(sheng)在(zai)精密裝置或電路中(zhong)，就會引起各(ge)種事故。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)太高時(shi)將(jiang)通過空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)分(fen)子(zi)把硅(gui)片表(biao)面(mian)粘(zhan)(zhan)著的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)(fu)在(zai)表(biao)面(mian)難以(yi)清除。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)高,粘(zhan)(zhan)附(fu)(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉(diao)，但當相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)低(di)于(yu)(yu)(yu)(yu)30%時(shi)，又由于(yu)(yu)(yu)(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)(de)作用使(shi)粒子(zi)也容易(yi)吸附(fu)(fu)于(yu)(yu)(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)大量半(ban)導體(ti)(ti)器件容易(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于(yu)(yu)(yu)(yu)硅(gui)片生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)范圍為(wei)35—45%。