潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)列舉，但作為(wei)總的(de)(de)(de)原則看，由于(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精細，所以(yi)(yi)對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動(dong)范(fan)圍的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)來越(yue)小。例如(ru)在(zai)大規模(mo)集成(cheng)電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作為(wei)掩膜(mo)板材料的(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)與硅片的(de)(de)(de)熱(re)膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)來越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)要(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)值一般(ban)較低(di)，因(yin)為(wei)人(ren)出汗(han)以(yi)(yi)后，對(dui)產(chan)品將(jiang)有污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)半導體(ti)車間，這(zhe)種(zhong)車間溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)問題更多(duo)。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)超過55%時(shi)，冷卻水管(guan)壁上(shang)會(hui)結露，如(ru)果發(fa)生(sheng)在(zai)精密裝置或電路中(zhong)，就會(hui)引起(qi)各種(zhong)事故。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)將(jiang)通(tong)過空氣中(zhong)的(de)(de)(de)水分子(zi)(zi)把(ba)硅片表面(mian)(mian)粘著的(de)(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表面(mian)(mian)難以(yi)(yi)清除。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附的(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但當相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)，又(you)由于(yu)靜電力的(de)(de)(de)作用使粒子(zi)(zi)也容易(yi)吸附于(yu)表面(mian)(mian)，同時(shi)大量半導體(ti)器件容易(yi)發(fa)生(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)硅片生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。