潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)要求以后還要列舉，但(dan)作為(wei)總的(de)(de)原則看，由于(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精(jing)細，所(suo)以對(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)波動范圍的(de)(de)要求越(yue)來(lai)越(yue)小。例(li)如(ru)在(zai)(zai)(zai)大規模集成(cheng)電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中，作為(wei)掩(yan)膜板材料的(de)(de)玻璃與硅(gui)片的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差要求越(yue)來(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)硅(gui)片，溫度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引(yin)起(qi)了0.24um線性膨脹，所(suo)以必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒(heng)溫，同(tong)時(shi)要求濕(shi)度(du)(du)值一般較低(di)，因為(wei)人出汗(han)以后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品將有(you)污染(ran)，特別是(shi)怕(pa)鈉(na)的(de)(de)半導體車(che)間，這種車(che)間溫度(du)(du)不宜超(chao)過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)問(wen)題(ti)更多(duo)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)，冷卻(que)水(shui)管壁(bi)上會結露，如(ru)果發生(sheng)在(zai)(zai)(zai)精(jing)密裝置或電路中，就會引(yin)起(qi)各種事故。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)在(zai)(zai)(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)太高(gao)時(shi)將通(tong)過(guo)空氣中的(de)(de)水(shui)分子把硅(gui)片表面粘著的(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)(zai)(zai)表面難以清(qing)除。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)越(yue)高(gao),粘附的(de)(de)越(yue)難去(qu)掉，但(dan)當(dang)相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜電力的(de)(de)作用使粒(li)子也容易吸附于(yu)表面，同(tong)時(shi)大量半導體器(qi)件容易發生(sheng)擊(ji)穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)硅(gui)片生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)范圍為(wei)35—45%。