潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)藝對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)要(yao)(yao)求(qiu)以后(hou)還要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為(wei)總(zong)的(de)原則看，由于(yu)(yu)(yu)加工(gong)(gong)精(jing)(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精(jing)(jing)細，所以對(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動范圍(wei)的(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電(dian)路生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板材料的(de)玻璃與硅片的(de)熱膨(peng)脹系數的(de)差(cha)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)硅片，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線(xian)性膨(peng)脹，所以必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)恒溫(wen)(wen)，同時要(yao)(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)值一般(ban)較低(di)，因為(wei)人出汗以后(hou)，對(dui)產(chan)品(pin)將(jiang)有污染，特別是怕(pa)鈉的(de)半導體車(che)間(jian)(jian)，這種車(che)間(jian)(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)問題更多。相(xiang)(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)55%時，冷(leng)卻水(shui)管壁(bi)上會(hui)結(jie)露(lu)，如(ru)果發(fa)生(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)(jing)密(mi)裝置或電(dian)路中(zhong)，就會(hui)引(yin)起各種事故(gu)。相(xiang)(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)50%時易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕度(du)(du)(du)太高(gao)時將(jiang)通(tong)過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)水(shui)分子把硅片表(biao)(biao)面粘著(zhu)的(de)灰塵(chen)化(hua)學吸(xi)附在(zai)表(biao)(biao)面難(nan)以清除。相(xiang)(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附的(de)越(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)低(di)于(yu)(yu)(yu)30%時，又由于(yu)(yu)(yu)靜電(dian)力(li)的(de)作(zuo)用使粒(li)子也(ye)容易吸(xi)附于(yu)(yu)(yu)表(biao)(biao)面，同時大(da)量半導體器件(jian)容易發(fa)生(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對(dui)于(yu)(yu)(yu)硅片生(sheng)(sheng)產(chan)濕度(du)(du)(du)范圍(wei)為(wei)35—45%。