潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)(gong)藝(yi)對溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)要(yao)求以(yi)后還要(yao)列舉，但作為總的(de)原則看，由于(yu)加工(gong)(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精細，所(suo)以(yi)對溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)波(bo)動范圍(wei)的(de)要(yao)求越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)(zai)大規(gui)模集(ji)成電(dian)路生(sheng)(sheng)產的(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)(gong)藝(yi)中，作為掩(yan)膜板材料的(de)玻璃與硅(gui)(gui)片的(de)熱(re)膨(peng)脹(zhang)系數的(de)差(cha)要(yao)求越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)硅(gui)(gui)片，溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就引起(qi)了(le)0.24um線性膨(peng)脹(zhang)，所(suo)以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)恒溫(wen)(wen)(wen)，同(tong)時要(yao)求濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為人出汗以(yi)后，對產品將有污染，特(te)別是怕鈉(na)的(de)半導(dao)體(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)問題更多。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超過(guo)(guo)55%時，冷卻水管壁上(shang)會(hui)結露，如(ru)果(guo)發生(sheng)(sheng)在(zai)(zai)精密裝置或(huo)電(dian)路中，就會(hui)引起(qi)各種事故。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時易(yi)生(sheng)(sheng)銹。此(ci)外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太高時將通過(guo)(guo)空(kong)氣中的(de)水分子(zi)把硅(gui)(gui)片表面(mian)粘著的(de)灰塵化學吸(xi)附在(zai)(zai)表面(mian)難(nan)以(yi)清除。相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘附的(de)越(yue)(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時，又由于(yu)靜(jing)電(dian)力的(de)作用使粒子(zi)也容易(yi)吸(xi)附于(yu)表面(mian)，同(tong)時大量半導(dao)體(ti)器件容易(yi)發生(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對于(yu)硅(gui)(gui)片生(sheng)(sheng)產濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍(wei)為35—45%。