潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝對溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以(yi)后(hou)還要列舉，但作為(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于加工(gong)精(jing)(jing)度(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)(jing)細，所以(yi)對溫(wen)度(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例(li)如在(zai)大(da)規模集成電路(lu)生產(chan)的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝中(zhong)，作為(wei)掩膜(mo)板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與(yu)硅(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數(shu)的(de)(de)(de)(de)差(cha)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)(pian)，溫(wen)度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)(tong)時要求(qiu)濕(shi)度(du)(du)值一般較低(di)，因為(wei)人出汗(han)以(yi)后(hou)，對產(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半(ban)(ban)導體(ti)車(che)間，這種車(che)間溫(wen)度(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過(guo)高產(chan)生的(de)(de)(de)(de)問題(ti)更多。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)超過(guo)55%時，冷卻水管壁上(shang)會結露，如果發生在(zai)精(jing)(jing)密裝置或電路(lu)中(zhong)，就會引起各種事故。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)在(zai)50%時易(yi)生銹。此(ci)外，濕(shi)度(du)(du)太高時將通(tong)過(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子(zi)把(ba)硅(gui)片(pian)(pian)表(biao)面(mian)粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)灰塵(chen)化學吸附(fu)在(zai)表(biao)面(mian)難以(yi)清除。相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去(qu)掉，但當(dang)相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)低(di)于30%時，又(you)由于靜電力的(de)(de)(de)(de)作用使粒子(zi)也容(rong)易(yi)吸附(fu)于表(biao)面(mian)，同(tong)(tong)時大(da)量半(ban)(ban)導體(ti)器件容(rong)易(yi)發生擊穿。對于硅(gui)片(pian)(pian)生產(chan)濕(shi)度(du)(du)范圍為(wei)35—45%。