潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求以(yi)(yi)后(hou)還(huan)要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)加工精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精(jing)細，所以(yi)(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)(fan)圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求越(yue)來越(yue)小。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電(dian)路生(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝(pu)光(guang)工藝中(zhong)(zhong)，作(zuo)為掩膜板材(cai)料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)片的(de)(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)系(xi)數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求越(yue)來越(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)時(shi)要(yao)(yao)求濕(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為人出汗以(yi)(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產品(pin)將有污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半導體車間(jian)，這種車間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)(chao)過(guo)55%時(shi)，冷(leng)卻水管壁上會(hui)結露，如(ru)果發(fa)生(sheng)在(zai)精(jing)密(mi)裝置或電(dian)路中(zhong)(zhong)，就會(hui)引起各種事故。相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹(xiu)。此外(wai)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)太高時(shi)將通過(guo)空氣(qi)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片表(biao)(biao)面(mian)(mian)粘著的(de)(de)(de)(de)灰塵(chen)化學吸附在(zai)表(biao)(biao)面(mian)(mian)難以(yi)(yi)清除(chu)。相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)高,粘附的(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉(diao)，但當相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜電(dian)力(li)的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容(rong)易吸附于(yu)表(biao)(biao)面(mian)(mian)，同(tong)時(shi)大(da)量(liang)半導體器件容(rong)易發(fa)生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅(gui)片生(sheng)產濕(shi)度(du)(du)(du)(du)范(fan)(fan)圍為35—45%。