潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工藝(yi)對(dui)溫度(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求以(yi)后(hou)還要(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為總(zong)的(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)于(yu)加(jia)工精度(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所(suo)以(yi)對(dui)溫度(du)波(bo)動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)(zai)大(da)規模(mo)集成電(dian)路生(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工藝(yi)中，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃與硅(gui)片的(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑(jing)100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片，溫度(du)上(shang)(shang)升(sheng)1度(du)，就(jiu)引(yin)起(qi)了0.24um線(xian)性膨(peng)(peng)脹(zhang)，所(suo)以(yi)必(bi)須(xu)有±0.1度(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫，同(tong)(tong)時要(yao)求濕(shi)(shi)(shi)度(du)值一般較低，因為人出汗(han)以(yi)后(hou)，對(dui)產品(pin)將(jiang)有污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫度(du)不宜超過(guo)25度(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)過(guo)高(gao)(gao)產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問(wen)題(ti)更多。相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)超過(guo)55%時，冷(leng)卻水(shui)管壁上(shang)(shang)會結露，如果發生(sheng)在(zai)(zai)精密(mi)裝置或電(dian)路中，就(jiu)會引(yin)起(qi)各種事故。相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)在(zai)(zai)50%時易生(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)太高(gao)(gao)時將(jiang)通過(guo)空氣中的(de)(de)(de)(de)水(shui)分子把硅(gui)片表(biao)面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)灰塵(chen)化學(xue)吸(xi)附在(zai)(zai)表(biao)面難以(yi)清除。相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)越(yue)(yue)高(gao)(gao),粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但(dan)當相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)低于(yu)30%時，又由(you)于(yu)靜電(dian)力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容(rong)易吸(xi)附于(yu)表(biao)面，同(tong)(tong)時大(da)量半(ban)導體(ti)器件(jian)容(rong)易發生(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)硅(gui)片生(sheng)產濕(shi)(shi)(shi)度(du)范圍為35—45%。