潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工藝(yi)對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求以后(hou)還要(yao)列(lie)舉，但(dan)作為(wei)總的(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)(you)于(yu)(yu)加工精(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精(jing)細(xi)，所以對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)來(lai)越(yue)小。例如在(zai)(zai)(zai)大規模集成(cheng)電(dian)(dian)路生產(chan)(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)光刻曝光工藝(yi)中(zhong)，作為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)與硅(gui)片的(de)(de)(de)(de)(de)熱(re)膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)來(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引(yin)起(qi)了(le)0.24um線性膨脹(zhang)，所以必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)求濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)值一般較(jiao)低(di)，因為(wei)人出(chu)汗以后(hou)，對(dui)(dui)(dui)產(chan)(chan)品將(jiang)有污染(ran)，特(te)別是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半導體(ti)車(che)間(jian)(jian)，這(zhe)種車(che)間(jian)(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)過(guo)(guo)高產(chan)(chan)生的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁(bi)上會結露，如果發(fa)生在(zai)(zai)(zai)精(jing)密裝置或(huo)電(dian)(dian)路中(zhong)，就會引(yin)起(qi)各種事(shi)故。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)在(zai)(zai)(zai)50%時(shi)易(yi)(yi)生銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高時(shi)將(jiang)通(tong)過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水分子(zi)把(ba)硅(gui)片表(biao)面(mian)粘著(zhu)的(de)(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵(chen)化學吸附(fu)在(zai)(zai)(zai)表(biao)面(mian)難(nan)以清除。相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難(nan)去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)低(di)于(yu)(yu)30%時(shi)，又由(you)(you)于(yu)(yu)靜電(dian)(dian)力的(de)(de)(de)(de)(de)作用(yong)使粒子(zi)也容(rong)易(yi)(yi)吸附(fu)于(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)大量半導體(ti)器件容(rong)易(yi)(yi)發(fa)生擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)(yu)硅(gui)片生產(chan)(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。