潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以后還要列舉(ju)，但作為(wei)(wei)總(zong)的(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)于(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)精細，所以對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小。例如在大規模集成電(dian)路(lu)生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝中，作為(wei)(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃與(yu)硅(gui)片(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫，同(tong)時要求(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)(wei)人出汗以后，對(dui)(dui)產(chan)品將有污染(ran)，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半導體(ti)車間(jian)，這種車間(jian)溫度(du)(du)(du)不(bu)宜超(chao)過25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)過高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更(geng)多。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)超(chao)過55%時，冷卻(que)水管壁(bi)上會結露(lu)，如果發(fa)生(sheng)在精密裝(zhuang)置或電(dian)路(lu)中，就會引起各種事故。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)在50%時易生(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高(gao)時將通過空氣(qi)中的(de)(de)(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片(pian)表面粘著的(de)(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化(hua)學吸附在表面難(nan)以清除。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難(nan)去(qu)掉，但當(dang)相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)30%時，又由(you)于(yu)靜電(dian)力的(de)(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容易吸附于(yu)表面，同(tong)時大量半導體(ti)器件容易發(fa)生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅(gui)片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為(wei)(wei)35—45%。