潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工(gong)藝(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后(hou)還要(yao)(yao)列舉，但作為總的(de)(de)(de)原(yuan)則看，由于(yu)(yu)加(jia)工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)大規模集成電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝(yi)中，作為掩(yan)膜板(ban)材料的(de)(de)(de)玻(bo)璃與硅(gui)片的(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)系(xi)數的(de)(de)(de)差(cha)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低(di)(di)，因為人出汗(han)以(yi)后(hou)，對產(chan)品將有污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)半(ban)導(dao)體車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁上會結露，如(ru)果發生(sheng)在(zai)精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相(xiang)(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹。此(ci)外，濕度(du)(du)(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)將通(tong)過(guo)空氣(qi)中的(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片表(biao)面(mian)粘(zhan)(zhan)著(zhu)的(de)(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表(biao)面(mian)難以(yi)清除。相(xiang)(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)(zhan)附的(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)低(di)(di)于(yu)(yu)30%時(shi)，又由于(yu)(yu)靜電力的(de)(de)(de)作用使粒子也(ye)容易吸附于(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)大量半(ban)導(dao)體器(qi)件容易發生(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅(gui)片生(sheng)產(chan)濕度(du)(du)(du)(du)(du)范圍為35—45%。