潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求以(yi)(yi)后(hou)還要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)原則看，由(you)(you)于加(jia)工精(jing)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精(jing)細，所以(yi)(yi)對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電(dian)(dian)路(lu)生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)光(guang)刻(ke)曝(pu)光(guang)工藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板(ban)材料(liao)的(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)熱(re)膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)差(cha)要(yao)(yao)求越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同(tong)時(shi)要(yao)(yao)求濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)人出(chu)汗以(yi)(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產品將有(you)污(wu)染，特別(bie)是怕鈉的(de)(de)(de)半導體車間(jian)，這種車間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻(que)水(shui)管壁上(shang)會(hui)結露，如(ru)果發生(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)密裝置(zhi)或電(dian)(dian)路(lu)中(zhong)，就會(hui)引起各種事故。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易生(sheng)(sheng)銹(xiu)。此(ci)外，濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)將通過(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)水(shui)分子(zi)把硅片(pian)表面(mian)粘著的(de)(de)(de)灰塵化(hua)學(xue)吸附(fu)在(zai)表面(mian)難以(yi)(yi)清除。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去(qu)掉(diao)，但當相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低于30%時(shi)，又由(you)(you)于靜電(dian)(dian)力的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容(rong)易吸附(fu)于表面(mian)，同(tong)時(shi)大(da)量半導體器件容(rong)易發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于硅片(pian)生(sheng)(sheng)產濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。