潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝(yi)(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)(yao)列舉，但(dan)作為總(zong)的(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由于加工精(jing)(jing)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)(jing)細，所以(yi)(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)大規模集成電(dian)路生(sheng)(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝(yi)(yi)中，作為掩膜板材(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系數(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)上升(sheng)1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線性(xing)膨(peng)脹(zhang)，所以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)值一(yi)般較低(di)，因為人(ren)出汗以(yi)(yi)后，對(dui)產品將(jiang)有污(wu)染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車間，這種車間溫(wen)度(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)濕度(du)(du)(du)超(chao)過(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻(que)水管壁(bi)上會結露，如果發生(sheng)(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)(jing)密裝置或電(dian)路中，就會引起(qi)各種事故。相對(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易生(sheng)(sheng)(sheng)銹。此外，濕度(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)將(jiang)通(tong)過(guo)(guo)空氣中的(de)(de)(de)(de)(de)水分(fen)子把硅片(pian)表面粘著的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)在(zai)表面難以(yi)(yi)清除。相對(dui)濕度(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去(qu)掉，但(dan)當相對(dui)濕度(du)(du)(du)低(di)于30%時(shi)，又由于靜電(dian)力的(de)(de)(de)(de)(de)作用使粒子也(ye)容易吸附(fu)于表面，同時(shi)大量半導(dao)體器(qi)件(jian)容易發生(sheng)(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于硅片(pian)生(sheng)(sheng)(sheng)產濕度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。