潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)(gong)(gong)藝對(dui)溫度(du)(du)(du)的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)列舉，但作為(wei)總的(de)原則(ze)看(kan)，由(you)于加工(gong)(gong)(gong)精度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)精細，所(suo)以(yi)(yi)對(dui)溫度(du)(du)(du)波(bo)動(dong)范(fan)圍(wei)的(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。例如(ru)在(zai)大(da)規模集成電路(lu)生(sheng)(sheng)(sheng)產的(de)光(guang)刻(ke)曝光(guang)工(gong)(gong)(gong)藝中，作為(wei)掩膜板材料的(de)玻璃與硅(gui)片(pian)(pian)的(de)熱膨(peng)脹系數的(de)差要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)硅(gui)片(pian)(pian)，溫度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就(jiu)引(yin)(yin)起了0.24um線(xian)性膨(peng)脹，所(suo)以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)恒溫，同時(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)值一般(ban)較(jiao)低，因為(wei)人出汗以(yi)(yi)后，對(dui)產品(pin)將有污(wu)染，特別是怕鈉的(de)半導體車間，這種(zhong)車間溫度(du)(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)問(wen)題更多(duo)。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁上會結露，如(ru)果發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)在(zai)精密裝(zhuang)置或電路(lu)中，就(jiu)會引(yin)(yin)起各種(zhong)事故(gu)。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)(sheng)(sheng)銹(xiu)。此(ci)外，濕(shi)度(du)(du)(du)太高時(shi)將通(tong)過(guo)空氣(qi)中的(de)水分(fen)子把硅(gui)片(pian)(pian)表(biao)面(mian)粘著的(de)灰塵化(hua)學吸附(fu)在(zai)表(biao)面(mian)難以(yi)(yi)清除。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)低于30%時(shi)，又由(you)于靜電力(li)的(de)作用使粒(li)子也容易(yi)吸附(fu)于表(biao)面(mian)，同時(shi)大(da)量半導體器(qi)件容易(yi)發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對(dui)于硅(gui)片(pian)(pian)生(sheng)(sheng)(sheng)產濕(shi)度(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為(wei)35—45%。