潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工藝對(dui)溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以后還要(yao)列舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)原則看(kan)，由(you)于加工精度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精細，所(suo)以對(dui)溫(wen)度(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)大規模集成電(dian)路生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)光刻曝光工藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃與(yu)硅片的(de)(de)(de)熱(re)膨脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就(jiu)引(yin)(yin)起了0.24um線性膨脹，所(suo)以必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)恒(heng)溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕(shi)度(du)(du)值(zhi)一般較低，因為(wei)人(ren)出(chu)汗(han)以后，對(dui)產品將有(you)污染，特(te)別是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)車間(jian)，這種車間(jian)溫(wen)度(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過(guo)(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁上(shang)會結露，如果發(fa)生(sheng)(sheng)在(zai)精密裝置或(huo)電(dian)路中(zhong)，就(jiu)會引(yin)(yin)起各種事(shi)故(gu)。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)太高時(shi)(shi)將通過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)水分子(zi)把硅片表(biao)面粘著的(de)(de)(de)灰塵化學吸附在(zai)表(biao)面難以清除。相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)低于30%時(shi)(shi)，又由(you)于靜電(dian)力(li)的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容(rong)易吸附于表(biao)面，同時(shi)(shi)大量半(ban)導體(ti)器件容(rong)易發(fa)生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于硅片生(sheng)(sheng)產濕(shi)度(du)(du)范(fan)圍(wei)為(wei)35—45%。