潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要求(qiu)以(yi)后還要列(lie)舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)原則看(kan)，由于加(jia)工精度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)波動(dong)范圍(wei)(wei)的(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)(zai)大規模集成(cheng)電(dian)路生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)光刻曝光工藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩(yan)膜板材料的(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就(jiu)(jiu)引起了0.24um線性膨(peng)脹(zhang)，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同(tong)(tong)時(shi)(shi)要求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產(chan)品(pin)將有(you)污染，特別是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)半(ban)導體車間，這種車間溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)問題更多(duo)。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)，冷(leng)卻水管壁上會結露，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)(zai)精密(mi)裝(zhuang)置或電(dian)路中(zhong)，就(jiu)(jiu)會引起各種事故。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)將通過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)水分子把硅片(pian)表面粘(zhan)著的(de)(de)(de)灰塵(chen)化學吸附(fu)在(zai)(zai)表面難(nan)(nan)以(yi)清(qing)除。相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)(nan)去掉(diao)，但當相對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于30%時(shi)(shi)，又由于靜電(dian)力的(de)(de)(de)作(zuo)用使(shi)粒子也容(rong)易吸附(fu)于表面，同(tong)(tong)時(shi)(shi)大量半(ban)導體器件(jian)容(rong)易發生(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對(dui)(dui)于硅片(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范圍(wei)(wei)為(wei)35—45%。