潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工(gong)藝(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求以(yi)(yi)(yi)后還要列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)(you)于(yu)加(jia)工(gong)精度(du)(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精細(xi)，所(suo)以(yi)(yi)(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要求越(yue)來越(yue)小(xiao)。例如在(zai)大規模集(ji)成(cheng)電路(lu)生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃與(yu)硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱(re)膨(peng)脹系數的(de)(de)(de)(de)差要求越(yue)來越(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線性膨(peng)脹，所(suo)以(yi)(yi)(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時要求濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般較低，因為(wei)人出汗以(yi)(yi)(yi)后，對產品將(jiang)有(you)污染，特(te)別是怕(pa)鈉(na)的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多(duo)。相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時，冷(leng)卻(que)水管(guan)壁上(shang)會結露，如果發(fa)生(sheng)(sheng)在(zai)精密裝(zhuang)置或電路(lu)中(zhong)，就會引起(qi)各種事故。相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時易(yi)(yi)生(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太(tai)高時將(jiang)通(tong)過(guo)空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子把(ba)硅片(pian)表面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)灰塵化(hua)學吸附(fu)(fu)在(zai)表面難以(yi)(yi)(yi)清除。相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)高,粘(zhan)附(fu)(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉(diao)，但(dan)當相對濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時，又由(you)(you)于(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒(li)子也容易(yi)(yi)吸附(fu)(fu)于(yu)表面，同時大量半導(dao)體(ti)器件容易(yi)(yi)發(fa)生(sheng)(sheng)擊穿。對于(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)產濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。