潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝(yi)對(dui)(dui)(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)要求以(yi)后還要列(lie)舉，但作(zuo)為總的(de)原則看(kan)，由于(yu)(yu)加工精度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細(xi)，所以(yi)對(dui)(dui)(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)波動(dong)范圍的(de)要求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)(zai)大(da)規模集成電(dian)路生(sheng)(sheng)產的(de)光刻(ke)曝光工藝(yi)中(zhong)(zhong)(zhong)，作(zuo)為掩膜板材料的(de)玻璃與硅(gui)片(pian)(pian)的(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)差要求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)硅(gui)片(pian)(pian)，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)，就(jiu)(jiu)引(yin)起了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)恒溫(wen)(wen)，同(tong)時(shi)(shi)要求濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低(di)，因(yin)為人出(chu)汗以(yi)后，對(dui)(dui)(dui)(dui)產品將有污染，特別是怕鈉的(de)半導體(ti)車間，這種車間溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)不宜(yi)超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)過高產生(sheng)(sheng)的(de)問題更(geng)多。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管(guan)壁上會結露，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)(zai)精密(mi)裝置或電(dian)路中(zhong)(zhong)(zhong)，就(jiu)(jiu)會引(yin)起各種事故。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將通(tong)過空氣中(zhong)(zhong)(zhong)的(de)水(shui)分(fen)子把硅(gui)片(pian)(pian)表面粘(zhan)著的(de)灰塵(chen)化學吸(xi)附在(zai)(zai)表面難(nan)以(yi)清除(chu)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘(zhan)附的(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由于(yu)(yu)靜電(dian)力的(de)作(zuo)用(yong)使粒子也容易吸(xi)附于(yu)(yu)表面，同(tong)時(shi)(shi)大(da)量半導體(ti)器(qi)件容易發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)(dui)于(yu)(yu)硅(gui)片(pian)(pian)生(sheng)(sheng)產濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)(du)范圍為35—45%。