潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以后還要(yao)(yao)列(lie)舉(ju)，但(dan)作為(wei)總(zong)的(de)(de)(de)原則(ze)看，由于加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)越來越精(jing)細，所以對(dui)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越來越小。例如在大規模集成(cheng)電路生(sheng)產(chan)(chan)的(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)藝中，作為(wei)掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃與(yu)硅片的(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)差(cha)要(yao)(yao)求(qiu)越來越小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)硅片，溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)上升(sheng)1度(du)(du)(du)，就(jiu)引(yin)起了(le)0.24um線性膨脹，所以必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)，同時(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)值(zhi)一般較低(di)，因(yin)為(wei)人出汗以后，對(dui)產(chan)(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)半導體車間，這(zhe)種車間溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜超過(guo)(guo)(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)過(guo)(guo)(guo)高產(chan)(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)問題更(geng)多(duo)。相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)超過(guo)(guo)(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁上會結露，如果發生(sheng)在精(jing)密(mi)裝置或電路中，就(jiu)會引(yin)起各種事(shi)故。相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)在50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高時(shi)將通過(guo)(guo)(guo)空氣(qi)中的(de)(de)(de)水分子把硅片表面粘著的(de)(de)(de)灰塵化學(xue)吸附在表面難以清除。相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)越高,粘附的(de)(de)(de)越難去(qu)掉，但(dan)當(dang)相對(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)低(di)于30%時(shi)，又(you)由于靜電力的(de)(de)(de)作用使(shi)粒子也容易(yi)吸附于表面，同時(shi)大量半導體器(qi)件(jian)容易(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)于硅片生(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。