潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)(ti)工(gong)藝(yi)對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求以后還要列(lie)舉(ju)，但(dan)作(zuo)為(wei)(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看(kan)，由(you)于(yu)(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精(jing)細，所以對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要求越(yue)來越(yue)小(xiao)。例如(ru)在大規模集(ji)成電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝(yi)中(zhong)(zhong)，作(zuo)為(wei)(wei)掩(yan)膜板(ban)材料的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)差(cha)要求越(yue)來越(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線性(xing)膨(peng)(peng)脹(zhang)，所以必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒(heng)溫(wen)，同時(shi)(shi)要求濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為(wei)(wei)人出(chu)汗(han)以后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品(pin)將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)(ti)車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)不宜超(chao)過25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)過高產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問題更多(duo)。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁上會結露，如(ru)果發(fa)生(sheng)在精(jing)密裝置(zhi)或電路中(zhong)(zhong)，就(jiu)會引起各種(zhong)事故。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將通(tong)過空(kong)氣中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子把硅片(pian)表(biao)面(mian)粘著(zhu)的(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸附(fu)(fu)在表(biao)面(mian)難(nan)以清除。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高,粘附(fu)(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)難(nan)去掉，但(dan)當相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)(yu)靜(jing)電力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易吸附(fu)(fu)于(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)大量半(ban)導體(ti)(ti)器(qi)件(jian)容易發(fa)生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)范圍為(wei)(wei)35—45%。