潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)要求(qiu)(qiu)以后(hou)還要列(lie)舉，但作為(wei)總(zong)的(de)(de)原則看，由(you)于(yu)(yu)(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精(jing)細，所(suo)以對(dui)(dui)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)要求(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)小(xiao)。例(li)如在(zai)大規模集成電路生產(chan)的(de)(de)光刻曝(pu)光工(gong)藝中，作為(wei)掩膜板(ban)材料的(de)(de)玻璃與硅(gui)片的(de)(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)(de)差要求(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨脹(zhang)，所(suo)以必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)要求(qiu)(qiu)濕度(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為(wei)人出汗(han)以后(hou)，對(dui)(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)半導(dao)體車(che)(che)間(jian)，這(zhe)種(zhong)車(che)(che)間(jian)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)過高(gao)產(chan)生的(de)(de)問題更多(duo)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)超過55%時(shi)，冷卻水管壁上會(hui)(hui)結露，如果發生在(zai)精(jing)密裝置或(huo)電路中，就會(hui)(hui)引起各種(zhong)事故。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易生銹。此外，濕度(du)(du)(du)太高(gao)時(shi)將通過空氣中的(de)(de)水分(fen)子把硅(gui)片表(biao)(biao)面(mian)(mian)粘著的(de)(de)灰塵化學吸(xi)附(fu)在(zai)表(biao)(biao)面(mian)(mian)難以清除(chu)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)越(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)越(yue)難去(qu)掉，但當相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)低于(yu)(yu)(yu)30%時(shi)，又由(you)于(yu)(yu)(yu)靜電力(li)的(de)(de)作用使粒子也容(rong)易吸(xi)附(fu)于(yu)(yu)(yu)表(biao)(biao)面(mian)(mian)，同時(shi)大量(liang)半導(dao)體器件(jian)容(rong)易發生擊穿。對(dui)(dui)于(yu)(yu)(yu)硅(gui)片生產(chan)濕度(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。