潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)以后還要列舉(ju)，但(dan)作(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)細(xi)，所(suo)以對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)波動(dong)范圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)(zai)大規模集成電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅片的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線(xian)性(xing)膨脹，所(suo)以必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低(di)，因為人出汗以后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)品將有污染(ran)，特(te)別是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導(dao)體(ti)車(che)間，這種車(che)間溫(wen)度(du)(du)(du)(du)(du)不(bu)宜超(chao)(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過高產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)(chao)過55%時(shi)，冷(leng)卻水管壁上(shang)會結露(lu)，如(ru)果發生(sheng)在(zai)(zai)精(jing)密裝置或電路中(zhong)，就(jiu)會引起各種事故。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)易生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)將通過空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水分子把硅片表面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸(xi)附(fu)在(zai)(zai)表面難(nan)以清除(chu)。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉(diao)，但(dan)當相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用(yong)使粒子也容(rong)易吸(xi)附(fu)于(yu)表面，同時(shi)大量半(ban)導(dao)體(ti)器件容(rong)易發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)硅片生(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍(wei)為35—45%。