潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)以后(hou)還要(yao)列舉，但作(zuo)為(wei)(wei)(wei)總的(de)(de)原(yuan)則看，由于(yu)(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)精細，所以對溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如(ru)在大規模(mo)集(ji)成電(dian)路生(sheng)(sheng)產的(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)(wei)(wei)掩(yan)膜板材料的(de)(de)玻璃(li)與硅片的(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直(zhi)徑100 um的(de)(de)硅片，溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起(qi)了0.24um線性(xing)膨(peng)脹，所以必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫，同時(shi)要(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)值(zhi)一(yi)般較低，因為(wei)(wei)(wei)人出汗以后(hou)，對產品將(jiang)有污染(ran)，特別是(shi)怕(pa)鈉(na)的(de)(de)半導體車間，這種車間溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)問題更(geng)多(duo)。相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻水管壁上(shang)會結露(lu)，如(ru)果發生(sheng)(sheng)在精密(mi)裝置或電(dian)路中(zhong)，就會引(yin)起(qi)各種事故(gu)。相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)將(jiang)通(tong)過(guo)空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)水分子(zi)把硅片表(biao)面(mian)粘(zhan)著的(de)(de)灰塵化學吸(xi)(xi)附(fu)在表(biao)面(mian)難(nan)以清除。相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難(nan)去(qu)掉，但當相(xiang)對濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)，又由于(yu)(yu)靜電(dian)力的(de)(de)作(zuo)用使(shi)粒子(zi)也(ye)容(rong)易吸(xi)(xi)附(fu)于(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)大量(liang)半導體器件(jian)容(rong)易發生(sheng)(sheng)擊穿。對于(yu)(yu)硅片生(sheng)(sheng)產濕度(du)(du)(du)(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為(wei)(wei)(wei)35—45%。