潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)溫度(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)求以后(hou)還要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為總(zong)的(de)(de)原則看，由于(yu)加工精度(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所以對(dui)溫度(du)(du)(du)波(bo)動范圍(wei)的(de)(de)要(yao)(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如在大規模集(ji)成電(dian)路生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)的(de)(de)光刻曝光工藝中(zhong)，作(zuo)為掩(yan)膜板材料(liao)的(de)(de)玻(bo)璃與硅(gui)片(pian)的(de)(de)熱(re)膨脹(zhang)系數的(de)(de)差要(yao)(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線(xian)性膨脹(zhang)，所以必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫，同時(shi)要(yao)(yao)求濕(shi)度(du)(du)(du)值一般較低，因為人出(chu)汗以后(hou)，對(dui)產(chan)(chan)品將有污染，特(te)別是怕鈉的(de)(de)半導體(ti)車間，這種(zhong)車間溫度(du)(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過(guo)高(gao)(gao)產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)問題更多(duo)。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻水(shui)管壁上(shang)會結(jie)露，如果發生(sheng)(sheng)在精密裝置(zhi)或(huo)電(dian)路中(zhong)，就會引起(qi)各種(zhong)事(shi)故。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)在50%時(shi)易(yi)生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)太(tai)高(gao)(gao)時(shi)將通(tong)過(guo)空(kong)氣中(zhong)的(de)(de)水(shui)分(fen)子把硅(gui)片(pian)表面(mian)粘(zhan)著的(de)(de)灰(hui)塵化學(xue)吸(xi)附(fu)在表面(mian)難(nan)以清除(chu)。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao)(gao),粘(zhan)附(fu)的(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉(diao)，但當相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)，又(you)由于(yu)靜(jing)電(dian)力的(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易(yi)吸(xi)附(fu)于(yu)表面(mian)，同時(shi)大量半導體(ti)器件容易(yi)發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)硅(gui)片(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)范圍(wei)為35—45%。