潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求以(yi)(yi)(yi)(yi)后還要(yao)列舉，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)(de)原則看(kan)，由(you)于(yu)加工(gong)(gong)精(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精(jing)細，所(suo)以(yi)(yi)(yi)(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。例如(ru)在(zai)大規模(mo)集(ji)成電路生(sheng)(sheng)產的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工(gong)(gong)藝中(zhong)，作為掩膜板(ban)材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅片(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線(xian)性膨(peng)脹(zhang)，所(suo)以(yi)(yi)(yi)(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同(tong)時(shi)(shi)要(yao)求濕度(du)(du)(du)值一般較低，因(yin)為人出汗(han)以(yi)(yi)(yi)(yi)后，對(dui)(dui)產品將有(you)污染，特別是怕鈉(na)的(de)(de)(de)(de)(de)半導(dao)體(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)過高產生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)超過55%時(shi)(shi)，冷(leng)卻水(shui)管(guan)壁上會結露，如(ru)果發(fa)生(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)密裝置或電路中(zhong)，就會引起(qi)各種事故。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕度(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將通(tong)過空(kong)氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)分子把硅片(pian)表面(mian)粘著的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化學吸(xi)(xi)附在(zai)表面(mian)難以(yi)(yi)(yi)(yi)清除。相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)越(yue)高,粘附的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當(dang)相對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)(de)作用使粒(li)子也容易吸(xi)(xi)附于(yu)表面(mian)，同(tong)時(shi)(shi)大量(liang)半導(dao)體(ti)器件容易發(fa)生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)產濕度(du)(du)(du)范圍為35—45%。