潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工(gong)(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求以(yi)后(hou)還(huan)要(yao)列舉，但作(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)(de)原(yuan)則看，由于(yu)加工(gong)(gong)精度(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細(xi)，所(suo)以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)大規(gui)模(mo)集成電路生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)(de)光刻(ke)曝光工(gong)(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為掩膜板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃與硅(gui)片(pian)(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)(pian)(pian)，溫(wen)度(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線性膨(peng)脹，所(suo)以(yi)必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)求濕(shi)(shi)度(du)(du)值(zhi)一般較低，因(yin)為人出(chu)汗(han)以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產(chan)品將(jiang)有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導(dao)體(ti)車(che)間(jian)，這種車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)不(bu)宜(yi)超(chao)過25度(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)過高產(chan)生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題(ti)更多(duo)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)超(chao)過55%時(shi)，冷卻水(shui)管壁上(shang)會(hui)結露，如果發(fa)(fa)生(sheng)在(zai)精密裝置(zhi)或(huo)電路中(zhong)，就會(hui)引起(qi)各種事故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)太高時(shi)將(jiang)通過空(kong)氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)水(shui)分子(zi)把硅(gui)片(pian)(pian)(pian)表面(mian)(mian)粘(zhan)著(zhu)的(de)(de)(de)(de)(de)灰塵化(hua)學吸附(fu)在(zai)表面(mian)(mian)難以(yi)清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去(qu)掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)低于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜電力的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容(rong)易(yi)吸附(fu)于(yu)表面(mian)(mian)，同時(shi)大量半(ban)導(dao)體(ti)器件容(rong)易(yi)發(fa)(fa)生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅(gui)片(pian)(pian)(pian)生(sheng)產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。