潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以后(hou)還(huan)要(yao)(yao)列舉，但(dan)作為總的(de)(de)原(yuan)則看(kan)，由于加工精度(du)(du)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)精細(xi)，所(suo)以對(dui)(dui)溫度(du)(du)波動范圍的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小(xiao)。例如在大(da)(da)規模集成電(dian)路生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝中(zhong)，作為掩膜板材料(liao)的(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)熱膨脹(zhang)系(xi)數的(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)(lai)越(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)(de)硅片，溫度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨脹(zhang)，所(suo)以必須有±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒(heng)溫，同時(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)值一般較(jiao)低(di)，因為人(ren)出汗(han)以后(hou)，對(dui)(dui)產(chan)品將有污染，特別是(shi)怕鈉(na)的(de)(de)半導體(ti)車間，這種(zhong)車間溫度(du)(du)不(bu)宜超過25度(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)過高(gao)產(chan)生(sheng)(sheng)(sheng)的(de)(de)問題(ti)更多(duo)。相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)超過55%時(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁(bi)上會結露，如果發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)在精密裝置或電(dian)路中(zhong)，就會引(yin)起各種(zhong)事故。相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)在50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)度(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)將通過空氣中(zhong)的(de)(de)水(shui)分子把硅片表(biao)面粘著的(de)(de)灰塵化學吸(xi)附(fu)在表(biao)面難以清除。相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)越(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當相對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)低(di)于30%時(shi)(shi)，又由于靜電(dian)力(li)的(de)(de)作用使粒子也容(rong)易吸(xi)附(fu)于表(biao)面，同時(shi)(shi)大(da)(da)量(liang)半導體(ti)器件容(rong)易發(fa)生(sheng)(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)(dui)于硅片生(sheng)(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)范圍為35—45%。