潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝對(dui)(dui)溫(wen)度的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)(yi)(yi)后(hou)還(huan)要(yao)(yao)列舉，但作(zuo)為總(zong)的(de)(de)(de)原則看，由于(yu)加工(gong)精度越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所以(yi)(yi)(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如(ru)(ru)在(zai)大規模集成(cheng)電路生產的(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)玻(bo)璃(li)與(yu)硅(gui)片的(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)硅(gui)片，溫(wen)度上(shang)升1度，就引(yin)起(qi)了(le)0.24um線性(xing)膨脹，所以(yi)(yi)(yi)必(bi)須(xu)有±0.1度的(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時要(yao)(yao)求(qiu)濕度值一般較低(di)，因為人出汗以(yi)(yi)(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產品將有污染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)半導體(ti)車間，這種(zhong)(zhong)車間溫(wen)度不宜超過25度，濕度過高產生的(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對(dui)(dui)濕度超過55%時，冷卻(que)水(shui)管壁(bi)上(shang)會結露，如(ru)(ru)果發生在(zai)精密(mi)裝置或電路中(zhong)，就會引(yin)起(qi)各種(zhong)(zhong)事故(gu)。相(xiang)對(dui)(dui)濕度在(zai)50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣(qi)中(zhong)的(de)(de)(de)水(shui)分子把硅(gui)片表面粘著(zhu)的(de)(de)(de)灰(hui)塵(chen)化學(xue)吸附在(zai)表面難以(yi)(yi)(yi)清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕度越(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕度低(di)于(yu)30%時，又(you)由于(yu)靜電力(li)的(de)(de)(de)作(zuo)用使(shi)粒子也容易吸附于(yu)表面，同時大量半導體(ti)器(qi)件容易發生擊穿。對(dui)(dui)于(yu)硅(gui)片生產濕度范圍為35—45%。