潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)以(yi)后(hou)(hou)還要(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加工精度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)大規模集成(cheng)電路生(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩膜板材(cai)料的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數(shu)的(de)(de)(de)(de)差要(yao)求(qiu)越(yue)(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)，就(jiu)引起了0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)要(yao)求(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為(wei)人出汗以(yi)后(hou)(hou)，對(dui)(dui)產品(pin)將(jiang)有(you)污(wu)染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)(ban)導體(ti)車(che)間，這(zhe)種車(che)間溫(wen)度(du)(du)(du)不(bu)宜(yi)超(chao)過25度(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)過高產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)，冷卻水管壁上(shang)會結露，如果發生(sheng)在(zai)精密(mi)裝置或電路中(zhong)，就(jiu)會引起各種事(shi)故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)太(tai)高時(shi)將(jiang)通過空(kong)氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子把硅片表(biao)面(mian)粘著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵(chen)化(hua)學吸(xi)附(fu)在(zai)表(biao)面(mian)難(nan)以(yi)清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難(nan)去掉(diao)，但(dan)當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)，又由于(yu)(yu)靜(jing)電力(li)的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使(shi)粒子也容易(yi)吸(xi)附(fu)于(yu)(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)大量(liang)半(ban)(ban)導體(ti)器件(jian)容易(yi)發生(sheng)擊穿(chuan)。對(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片生(sheng)產濕(shi)度(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。