潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)(dui)溫度(du)的(de)(de)(de)要求(qiu)以后還要列舉(ju)，但(dan)作(zuo)為總(zong)的(de)(de)(de)原則(ze)看，由(you)于(yu)(yu)加工(gong)精度(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精細，所以對(dui)(dui)溫度(du)波(bo)動范圍的(de)(de)(de)要求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。例如在(zai)(zai)大規模集成電(dian)(dian)路生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)的(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中，作(zuo)為掩膜(mo)板材料的(de)(de)(de)玻(bo)璃與硅片(pian)的(de)(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)(de)差要求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)，溫度(du)上(shang)升1度(du)，就引起了0.24um線性膨(peng)脹，所以必(bi)須有±0.1度(du)的(de)(de)(de)恒溫，同時(shi)(shi)要求(qiu)濕(shi)度(du)值一般較低(di)，因為人出汗以后，對(dui)(dui)產(chan)(chan)品將有污染，特(te)別是怕鈉的(de)(de)(de)半導體車(che)間，這種車(che)間溫度(du)不宜超過25度(du)，濕(shi)度(du)過高產(chan)(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)問題(ti)更多(duo)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)超過55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁上(shang)會結(jie)露(lu)，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)(zai)精密裝(zhuang)置或電(dian)(dian)路中，就會引起各種事故。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)度(du)太高時(shi)(shi)將通過空(kong)氣中的(de)(de)(de)水分子把硅片(pian)表面(mian)粘著的(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸附在(zai)(zai)表面(mian)難(nan)以清除(chu)。相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)越(yue)(yue)高,粘附的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但(dan)當相(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)度(du)低(di)于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)(yu)靜電(dian)(dian)力的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易吸附于(yu)(yu)表面(mian)，同時(shi)(shi)大量半導體器件容易發生(sheng)(sheng)擊(ji)穿。對(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)度(du)范圍為35—45%。