潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工(gong)藝對(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要求以(yi)后(hou)還(huan)要列舉，但作(zuo)為(wei)總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于(yu)加(jia)工(gong)精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所以(yi)對(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。例如在(zai)大規模集成電(dian)(dian)路生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中(zhong)，作(zuo)為(wei)掩(yan)膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)片(pian)的(de)(de)(de)(de)熱(re)膨脹(zhang)系數(shu)的(de)(de)(de)(de)差要求越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線(xian)性(xing)膨脹(zhang)，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫，同時(shi)(shi)要求濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低(di)，因為(wei)人(ren)出汗以(yi)后(hou)，對(dui)產(chan)品將有(you)污染，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)(de)半導體車間，這種(zhong)車間溫度(du)(du)(du)(du)(du)不宜超過(guo)(guo)25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)過(guo)(guo)高(gao)(gao)產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)超過(guo)(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻水管壁上會結露，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)精密裝置或電(dian)(dian)路中(zhong)，就會引(yin)起各(ge)種(zhong)事故。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易(yi)(yi)生(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)太高(gao)(gao)時(shi)(shi)將通(tong)過(guo)(guo)空氣中(zhong)的(de)(de)(de)(de)水分子(zi)把硅(gui)片(pian)表面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸附在(zai)表面難(nan)以(yi)清(qing)除。相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao)(gao),粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)難(nan)去掉，但當(dang)相(xiang)(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)(shi)，又由于(yu)靜電(dian)(dian)力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)用使粒(li)子(zi)也(ye)容(rong)易(yi)(yi)吸附于(yu)表面，同時(shi)(shi)大量半導體器件容(rong)易(yi)(yi)發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)硅(gui)片(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)(du)范圍為(wei)35—45%。