潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體工(gong)藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后還要(yao)(yao)列(lie)舉，但作為(wei)總的(de)(de)(de)(de)(de)原則(ze)看，由(you)于(yu)(yu)(yu)加(jia)工(gong)精度(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精細，所以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)波動(dong)范圍的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。例如(ru)在大(da)規模集成電路生(sheng)產的(de)(de)(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝中，作為(wei)掩膜板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨脹(zhang)系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅片，溫度(du)(du)上(shang)(shang)升1度(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線性膨脹(zhang)，所以(yi)必須(xu)有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒(heng)溫，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)值一般(ban)較低，因為(wei)人出汗以(yi)后，對(dui)(dui)產品將(jiang)有(you)污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車間(jian)，這種(zhong)車間(jian)溫度(du)(du)不宜(yi)超過25度(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)過高(gao)產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)超過55%時(shi)(shi)(shi)，冷卻水管壁上(shang)(shang)會(hui)結露，如(ru)果發生(sheng)在精密裝置或電路中，就會(hui)引起(qi)各種(zhong)事(shi)故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易(yi)生(sheng)銹(xiu)。此(ci)外(wai)，濕(shi)(shi)度(du)(du)太高(gao)時(shi)(shi)(shi)將(jiang)通過空氣中的(de)(de)(de)(de)(de)水分子把(ba)硅片表(biao)面粘(zhan)著的(de)(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸附在表(biao)面難(nan)以(yi)清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)高(gao),粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)難(nan)去掉，但當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)低于(yu)(yu)(yu)30%時(shi)(shi)(shi)，又由(you)于(yu)(yu)(yu)靜電力(li)的(de)(de)(de)(de)(de)作用使粒子也容(rong)(rong)易(yi)吸附于(yu)(yu)(yu)表(biao)面，同時(shi)(shi)(shi)大(da)量半導(dao)體器(qi)件(jian)容(rong)(rong)易(yi)發生(sheng)擊(ji)穿(chuan)。對(dui)(dui)于(yu)(yu)(yu)硅片生(sheng)產濕(shi)(shi)度(du)(du)范圍為(wei)35—45%。