潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后(hou)還要(yao)(yao)列舉(ju)，但作為(wei)總的(de)(de)原則看，由于(yu)加(jia)工精度(du)(du)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)精細，所(suo)以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)波動范(fan)圍的(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。例(li)如在大(da)規模集成電(dian)(dian)路生(sheng)產的(de)(de)光刻曝光工藝中(zhong)(zhong)，作為(wei)掩膜(mo)板(ban)材料的(de)(de)玻(bo)璃與硅片的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差(cha)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)硅片，溫度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨脹，所(suo)以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)的(de)(de)恒溫，同時(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)值一般較低，因(yin)為(wei)人出汗以(yi)后(hou)，對(dui)(dui)產品將有(you)污染，特別是怕(pa)鈉的(de)(de)半(ban)導體(ti)車(che)間，這(zhe)種車(che)間溫度(du)(du)不宜超過(guo)25度(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)過(guo)高(gao)產生(sheng)的(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)超過(guo)55%時(shi)，冷卻水(shui)管壁上會(hui)結露(lu)，如果(guo)發(fa)生(sheng)在精密裝置(zhi)或電(dian)(dian)路中(zhong)(zhong)，就會(hui)引(yin)起各(ge)種事故。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)在50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)度(du)(du)太高(gao)時(shi)將通過(guo)空氣中(zhong)(zhong)的(de)(de)水(shui)分子(zi)把硅片表面粘著的(de)(de)灰塵化(hua)學(xue)吸附(fu)在表面難以(yi)清除(chu)。相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附(fu)的(de)(de)越(yue)(yue)難去(qu)掉，但當相(xiang)(xiang)(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)低于(yu)30%時(shi)，又由于(yu)靜電(dian)(dian)力的(de)(de)作用使粒子(zi)也容(rong)易(yi)吸附(fu)于(yu)表面，同時(shi)大(da)量半(ban)導體(ti)器件容(rong)易(yi)發(fa)生(sheng)擊穿(chuan)。對(dui)(dui)于(yu)硅片生(sheng)產濕(shi)(shi)度(du)(du)范(fan)圍為(wei)35—45%。