潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以后還要(yao)(yao)列(lie)舉，但作(zuo)為總(zong)的(de)(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加(jia)工精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精細，所以對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)大(da)規模集成電(dian)路生(sheng)產的(de)(de)(de)光刻曝光工藝中(zhong)，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃與硅片(pian)(pian)的(de)(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直徑(jing)100 um的(de)(de)(de)硅片(pian)(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就引起了0.24um線性膨(peng)脹，所以必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕度(du)(du)(du)(du)(du)值(zhi)一般較低，因為人出汗以后，對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)產品將(jiang)有污染(ran)，特別是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)半導(dao)體車間，這種車間溫度(du)(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)(du)過高產生(sheng)的(de)(de)(de)問題更(geng)多。相對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)(shi)(shi)，冷(leng)卻水管壁上(shang)(shang)會(hui)結露，如果發(fa)生(sheng)在(zai)精密裝置或電(dian)路中(zhong)，就會(hui)引起各種事故。相對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)(shi)易生(sheng)銹(xiu)。此(ci)外，濕度(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)(shi)將(jiang)通過空(kong)氣中(zhong)的(de)(de)(de)水分子(zi)把硅片(pian)(pian)表面粘著的(de)(de)(de)灰塵化學吸(xi)附(fu)在(zai)表面難以清除。相對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高,粘附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)(yue)難去掉，但當(dang)相對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)(shi)，又由于(yu)(yu)靜電(dian)力(li)的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子(zi)也容(rong)易吸(xi)附(fu)于(yu)(yu)表面，同時(shi)(shi)(shi)大(da)量半導(dao)體器(qi)件容(rong)易發(fa)生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)(dui)(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)(pian)生(sheng)產濕度(du)(du)(du)(du)(du)范圍為35—45%。