潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體工藝對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后還(huan)要(yao)(yao)列舉，但(dan)作(zuo)為總的(de)(de)(de)原則看，由于加工精(jing)度(du)(du)(du)越(yue)來(lai)越(yue)精(jing)細，所以(yi)對(dui)(dui)溫度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。例如在(zai)大規模集成電路生(sheng)產的(de)(de)(de)光刻曝光工藝中，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)片的(de)(de)(de)熱膨脹系(xi)數(shu)的(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)越(yue)來(lai)越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)硅(gui)片，溫度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性(xing)膨脹，所以(yi)必(bi)須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)恒溫，同(tong)時(shi)要(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)值一般(ban)較低(di)，因(yin)為人出(chu)汗以(yi)后，對(dui)(dui)產品將有污(wu)染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)半(ban)導體車(che)間，這種車(che)間溫度(du)(du)(du)不宜超過25度(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)過高產生(sheng)的(de)(de)(de)問題更(geng)多。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)超過55%時(shi)，冷卻水管壁上會結(jie)露，如果發(fa)生(sheng)在(zai)精(jing)密裝置或電路中，就會引(yin)起各種事故。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)易(yi)生(sheng)銹。此外(wai)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)太高時(shi)將通過空氣中的(de)(de)(de)水分子把硅(gui)片表(biao)(biao)面(mian)粘(zhan)著的(de)(de)(de)灰塵化(hua)學吸附(fu)在(zai)表(biao)(biao)面(mian)難以(yi)清除(chu)。相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)越(yue)高,粘(zhan)附(fu)的(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)對(dui)(dui)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)低(di)于30%時(shi)，又由于靜電力的(de)(de)(de)作(zuo)用使粒子也容易(yi)吸附(fu)于表(biao)(biao)面(mian)，同(tong)時(shi)大量半(ban)導體器件(jian)容易(yi)發(fa)生(sheng)擊(ji)穿。對(dui)(dui)于硅(gui)片生(sheng)產濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)范圍為35—45%。