潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)(ti)工藝對溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求以(yi)后(hou)(hou)還要(yao)(yao)列舉，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)(de)原(yuan)則看，由(you)于(yu)加(jia)工精度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對溫度(du)(du)(du)(du)(du)波動范圍(wei)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例(li)如(ru)在大(da)規模集成電(dian)(dian)路(lu)生產的(de)(de)(de)(de)(de)光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃與硅(gui)(gui)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)(de)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)，溫度(du)(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)(du)，就引起(qi)了0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)恒溫，同(tong)時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)求濕度(du)(du)(du)(du)(du)值一般較低(di)，因為人出汗以(yi)后(hou)(hou)，對產品將有污染，特別是怕鈉的(de)(de)(de)(de)(de)半(ban)導體(ti)(ti)車間，這種(zhong)車間溫度(du)(du)(du)(du)(du)不宜(yi)超過25度(du)(du)(du)(du)(du)，濕度(du)(du)(du)(du)(du)過高產生的(de)(de)(de)(de)(de)問題更多。相對濕度(du)(du)(du)(du)(du)超過55%時(shi)(shi)(shi)，冷卻(que)水管(guan)壁(bi)上(shang)會結露，如(ru)果發生在精密裝置或電(dian)(dian)路(lu)中，就會引起(qi)各種(zhong)事故。相對濕度(du)(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易生銹。此外，濕度(du)(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)(shi)將通過空氣中的(de)(de)(de)(de)(de)水分子(zi)把(ba)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)粘(zhan)著(zhu)的(de)(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學(xue)吸(xi)附在表(biao)(biao)面(mian)(mian)難(nan)以(yi)清除。相對濕度(du)(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)高,粘(zhan)附的(de)(de)(de)(de)(de)越(yue)(yue)(yue)(yue)(yue)難(nan)去掉，但(dan)當相對濕度(du)(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜(jing)電(dian)(dian)力的(de)(de)(de)(de)(de)作用(yong)使粒子(zi)也(ye)容易吸(xi)附于(yu)表(biao)(biao)面(mian)(mian)，同(tong)時(shi)(shi)(shi)大(da)量半(ban)導體(ti)(ti)器件容易發生擊穿(chuan)。對于(yu)硅(gui)(gui)片(pian)(pian)生產濕度(du)(du)(du)(du)(du)范圍(wei)為35—45%。