潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)(ti)工(gong)藝(yi)對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)以(yi)后還要(yao)(yao)(yao)列舉(ju)，但作(zuo)為總的(de)原則看，由(you)于(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)精(jing)細，所(suo)(suo)以(yi)對(dui)(dui)(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)(zai)大規(gui)模集成(cheng)電路生(sheng)產(chan)(chan)的(de)光刻(ke)曝光工(gong)藝(yi)中(zhong)，作(zuo)為掩膜板(ban)材料的(de)玻璃與硅片的(de)熱膨脹系數的(de)差要(yao)(yao)(yao)求(qiu)越(yue)(yue)來越(yue)(yue)小(xiao)。直(zhi)徑100 um的(de)硅片，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上(shang)升1度(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起(qi)了0.24um線性膨脹，所(suo)(suo)以(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)恒溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值(zhi)一(yi)般(ban)較低(di)，因為人出(chu)汗以(yi)后，對(dui)(dui)(dui)產(chan)(chan)品將有污染，特別是怕鈉(na)的(de)半(ban)導(dao)(dao)體(ti)(ti)車(che)間(jian)，這種(zhong)(zhong)車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不(bu)宜超過(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)高(gao)產(chan)(chan)生(sheng)的(de)問題更多。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超過(guo)55%時(shi)(shi)，冷(leng)卻水管壁上(shang)會(hui)結(jie)露，如果發生(sheng)在(zai)(zai)精(jing)密(mi)裝(zhuang)置(zhi)或(huo)電路中(zhong)，就會(hui)引(yin)起(qi)各種(zhong)(zhong)事故。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)易(yi)生(sheng)銹。此(ci)外(wai)，濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)(shi)將通過(guo)空氣中(zhong)的(de)水分子把硅片表(biao)面(mian)粘著的(de)灰塵化學吸(xi)附在(zai)(zai)表(biao)面(mian)難以(yi)清除。相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)高(gao),粘附的(de)越(yue)(yue)難去掉，但當(dang)相對(dui)(dui)(dui)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜(jing)電力的(de)作(zuo)用使粒(li)子也容易(yi)吸(xi)附于(yu)表(biao)面(mian)，同時(shi)(shi)大量(liang)半(ban)導(dao)(dao)體(ti)(ti)器件容易(yi)發生(sheng)擊穿。對(dui)(dui)(dui)于(yu)硅片生(sheng)產(chan)(chan)濕(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。