潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具體(ti)工(gong)藝(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以(yi)后還要(yao)列舉，但作(zuo)為總的(de)(de)原則看，由于(yu)(yu)加工(gong)精(jing)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)精(jing)細，所以(yi)對(dui)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)波動范(fan)圍(wei)的(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。例如在(zai)大規模集(ji)成電路生(sheng)(sheng)產(chan)的(de)(de)光(guang)(guang)刻曝(pu)光(guang)(guang)工(gong)藝(yi)中，作(zuo)為掩膜板(ban)材料的(de)(de)玻璃(li)與硅片(pian)(pian)的(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)差要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小(xiao)。直徑100 um的(de)(de)硅片(pian)(pian)，溫(wen)度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就(jiu)引起了(le)0.24um線性膨脹，所以(yi)必須有(you)±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)恒溫(wen)，同時(shi)(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因(yin)為人(ren)出汗以(yi)后，對(dui)產(chan)品將有(you)污染(ran)，特別(bie)是怕鈉的(de)(de)半(ban)導(dao)體(ti)車(che)間(jian)，這(zhe)種(zhong)車(che)間(jian)溫(wen)度(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過(guo)25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)過(guo)高產(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)問題更多。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)過(guo)55%時(shi)(shi)，冷卻(que)水(shui)(shui)管壁(bi)上會結露，如果(guo)發生(sheng)(sheng)在(zai)精(jing)密裝置或電路中，就(jiu)會引起各種(zhong)事故(gu)。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)在(zai)50%時(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹。此外，濕(shi)度(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)將通過(guo)空氣中的(de)(de)水(shui)(shui)分子(zi)把(ba)硅片(pian)(pian)表面(mian)粘(zhan)著(zhu)的(de)(de)灰塵化(hua)學吸附在(zai)表面(mian)難以(yi)清除。相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)(yue)(yue)高,粘(zhan)附的(de)(de)越(yue)(yue)(yue)難去掉，但當相對(dui)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)低于(yu)(yu)30%時(shi)(shi)，又(you)由于(yu)(yu)靜電力(li)的(de)(de)作(zuo)用(yong)使粒子(zi)也容易吸附于(yu)(yu)表面(mian)，同時(shi)(shi)大量(liang)半(ban)導(dao)體(ti)器件(jian)容易發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)(yu)硅片(pian)(pian)生(sheng)(sheng)產(chan)濕(shi)度(du)(du)(du)(du)范(fan)圍(wei)為35—45%。