潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。凈化工程設計施工具(ju)體(ti)工(gong)藝對溫度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)以(yi)(yi)后還要(yao)(yao)列舉(ju)，但(dan)作(zuo)(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)原則看，由(you)于(yu)加工(gong)精度(du)(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精細，所以(yi)(yi)對溫度(du)(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)小。例如在大(da)規模集成電(dian)(dian)路生產(chan)的(de)(de)(de)(de)光刻曝(pu)光工(gong)藝中，作(zuo)(zuo)為掩膜(mo)板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅(gui)片的(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹(zhang)系(xi)數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)小。直(zhi)徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅(gui)片，溫度(du)(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性(xing)膨(peng)脹(zhang)，所以(yi)(yi)必須有±0.1度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫，同時(shi)(shi)(shi)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)(qiu)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)值一般(ban)較低，因為人出汗以(yi)(yi)后，對產(chan)品將(jiang)有污染(ran)，特別(bie)是怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導(dao)體(ti)車(che)間(jian)，這種(zhong)車(che)間(jian)溫度(du)(du)(du)(du)不宜超(chao)過25度(du)(du)(du)(du)，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)過高產(chan)生的(de)(de)(de)(de)問(wen)題更多。相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)超(chao)過55%時(shi)(shi)(shi)，冷卻水管壁上會(hui)結露，如果發生在精密裝(zhuang)置或電(dian)(dian)路中，就會(hui)引(yin)起各種(zhong)事故。相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)在50%時(shi)(shi)(shi)易生銹(xiu)。此外，濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)太高時(shi)(shi)(shi)將(jiang)通過空(kong)氣中的(de)(de)(de)(de)水分(fen)子把硅(gui)片表面(mian)粘著的(de)(de)(de)(de)灰(hui)塵化學吸(xi)附(fu)(fu)在表面(mian)難以(yi)(yi)清除。相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)越(yue)高,粘附(fu)(fu)的(de)(de)(de)(de)越(yue)難去掉，但(dan)當相(xiang)(xiang)對濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)低于(yu)30%時(shi)(shi)(shi)，又由(you)于(yu)靜電(dian)(dian)力(li)的(de)(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)用使粒子也容(rong)易吸(xi)附(fu)(fu)于(yu)表面(mian)，同時(shi)(shi)(shi)大(da)量半(ban)導(dao)體(ti)器件容(rong)易發生擊(ji)穿(chuan)。對于(yu)硅(gui)片生產(chan)濕(shi)(shi)度(du)(du)(du)(du)范圍為35—45%。